อุปทานคงที่ในระยะยาวของ SiC 8 นิ้ว

ปัจจุบัน บริษัทของเราสามารถจัดหาเวเฟอร์ SiC ชนิด 8 นิ้ว N ในปริมาณเล็กน้อยได้อย่างต่อเนื่อง หากคุณต้องการตัวอย่าง โปรดติดต่อฉันได้เลย เรามีเวเฟอร์ตัวอย่างบางส่วนพร้อมส่ง

อุปทานคงที่ในระยะยาวของ SiC 8 นิ้ว
อุปทานคงที่ในระยะยาวของ 8 นิ้ว SiC หมายเหตุ1

ในด้านวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ บริษัทได้ประสบความสำเร็จอย่างมากในการวิจัยและพัฒนาผลึก SiC ขนาดใหญ่ โดยใช้ผลึกเมล็ดของตัวเองหลังจากการขยายขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางหลายรอบ บริษัทจึงสามารถปลูกผลึก SiC ชนิด N ขนาด 8 นิ้วได้สำเร็จ ซึ่งช่วยแก้ปัญหาที่ยาก เช่น สนามอุณหภูมิที่ไม่สม่ำเสมอ การแตกร้าวของผลึก และการกระจายวัตถุดิบในเฟสก๊าซในกระบวนการปลูกผลึก SIC ขนาด 8 นิ้ว และเร่งการเติบโตของผลึก SIC ขนาดใหญ่และเทคโนโลยีการประมวลผลที่เป็นอิสระและควบคุมได้ ช่วยเพิ่มความสามารถในการแข่งขันหลักของบริษัทในอุตสาหกรรมสารตั้งต้นผลึกเดี่ยว SiC อย่างมาก ในเวลาเดียวกัน บริษัทส่งเสริมการสะสมเทคโนโลยีและกระบวนการของสายการทดลองเตรียมสารตั้งต้นซิลิกอนคาร์ไบด์ขนาดใหญ่ เสริมสร้างการแลกเปลี่ยนทางเทคนิคและความร่วมมือทางอุตสาหกรรมในสาขาต้นน้ำและปลายน้ำ และร่วมมือกับลูกค้าเพื่อทำซ้ำประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์อย่างต่อเนื่อง และร่วมกันส่งเสริมความเร็วของการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมของวัสดุซิลิกอนคาร์ไบด์

ข้อมูลจำเพาะของ DSP SiC ชนิด N ขนาด 8 นิ้ว

ตัวเลข รายการ หน่วย การผลิต วิจัย หุ่นจำลอง
1. พารามิเตอร์
1.1 โพลีไทป์ -- 4H 4H 4H
1.2 การวางแนวพื้นผิว ° <11-20>4±0.5 <11-20>4±0.5 <11-20>4±0.5
2. พารามิเตอร์ทางไฟฟ้า
2.1 สารเจือปน -- ไนโตรเจนชนิด n ไนโตรเจนชนิด n ไนโตรเจนชนิด n
2.2 ความต้านทาน โอห์ม · ซม. 0.015~0.025 0.01~0.03 NA
3. พารามิเตอร์ทางกล
3.1 เส้นผ่านศูนย์กลาง mm 200±0.2 200±0.2 200±0.2
3.2 ความหนา ไมโครเมตร 500±25 500±25 500±25
3.3 การวางแนวรอยบาก ° [1- 100]±5 [1- 100]±5 [1- 100]±5
3.4 ความลึกของรอยบาก mm 1~1.5 1~1.5 1~1.5
3.5 มูลค่าหลักทรัพย์ตามราคาตลาด (LTV) ไมโครเมตร ≤5(10มม.*10มม.) ≤5(10มม.*10มม.) ≤10(10มม.*10มม.)
3.6 ทีทีวี ไมโครเมตร ≤10 ≤10 ≤15
3.7 โค้งคำนับ ไมโครเมตร -25~25 -45~45 -65~65
3.8 การบิดเบี้ยว ไมโครเมตร ≤30 ≤50 ≤70
3.9 เอเอฟเอ็ม nm รา≤0.2 รา≤0.2 รา≤0.2
4.โครงสร้าง
4.1 ความหนาแน่นของไมโครไพพ์ หน่วย/ซม2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 ปริมาณโลหะ อะตอม/ซม2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 ศูนย์รับฝากหลักทรัพย์ (TSD) หน่วย/ซม2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 โรค BPD หน่วย/ซม2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 เท็ด หน่วย/ซม2 ≤7000 ≤10000 NA
5. คุณภาพเชิงบวก
5.1 ด้านหน้า -- Si Si Si
5.2 ผิวสำเร็จ -- ซีเอ็มพี ไซเฟซ ซีเอ็มพี ไซเฟซ ซีเอ็มพี ไซเฟซ
5.3 อนุภาค เอ/เวเฟอร์ ≤100(ขนาด≥0.3μm) NA NA
5.4 เกา เอ/เวเฟอร์ ≤5, ความยาวรวม≤200มม. NA NA
5.5 ขอบ
รอยแตก/รอยบุบ/รอยแตก/คราบ/การปนเปื้อน
-- ไม่มี ไม่มี NA
5.6 พื้นที่โพลีไทป์ -- ไม่มี พื้นที่ ≤10% พื้นที่ ≤30%
5.7 เครื่องหมายด้านหน้า -- ไม่มี ไม่มี ไม่มี
6. คุณภาพด้านหลัง
6.1 ด้านหลังเสร็จสิ้น -- สส.หน้าซี สส.หน้าซี สส.หน้าซี
6.2 เกา mm NA NA NA
6.3 ขอบหลังมีตำหนิ
ชิป/รอยบุ๋ม
-- ไม่มี ไม่มี NA
6.4 ความหยาบหลัง nm รา≤5 รา≤5 รา≤5
6.5 การทำเครื่องหมายด้านหลัง -- รอยบาก รอยบาก รอยบาก
7. ขอบ
7.1 ขอบ -- มุมเฉียง มุมเฉียง มุมเฉียง
8. แพ็คเกจ
8.1 บรรจุภัณฑ์ -- อีพีพร้อมแล้วด้วยระบบสูญญากาศ
บรรจุภัณฑ์
อีพีพร้อมแล้วด้วยระบบสูญญากาศ
บรรจุภัณฑ์
อีพีพร้อมแล้วด้วยระบบสูญญากาศ
บรรจุภัณฑ์
8.2 บรรจุภัณฑ์ -- มัลติเวเฟอร์
บรรจุภัณฑ์แบบตลับเทป
มัลติเวเฟอร์
บรรจุภัณฑ์แบบตลับเทป
มัลติเวเฟอร์
บรรจุภัณฑ์แบบตลับเทป

เวลาโพสต์ : 18 เม.ย. 2566