ปริซึมควอตซ์หลอมรวม

คำอธิบายโดยย่อ:

ปริซึมควอตซ์หลอมเหลวเป็นองค์ประกอบทางแสงที่สำคัญซึ่งใช้ในการควบคุม จัดการ และเปลี่ยนทิศทางแสงในระบบแสงประสิทธิภาพสูงหลากหลายประเภท ผลิตจากซิลิกาหลอมเหลวที่มีความบริสุทธิ์สูงมาก ปริซึมเหล่านี้มีคุณสมบัติการส่งผ่านแสงที่ยอดเยี่ยมในช่วงคลื่นอัลตราไวโอเลต (UV) แสงที่มองเห็นได้ และแสงอินฟราเรดใกล้ (NIR) ด้วยความทนทานต่อความร้อนและสารเคมีที่โดดเด่น ความแข็งแรงเชิงกลที่ดีเยี่ยม และการหักเหของแสงที่น้อยที่สุด ปริซึมควอตซ์หลอมเหลวจึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานที่สำคัญในด้านสเปกโทรสโกปี เลเซอร์ออปติก การถ่ายภาพ และเครื่องมือทางวิทยาศาสตร์

ส่งอีเมลถึงเรา

คุณสมบัติ

แผนภาพโดยละเอียด

O1CN01ZoeDOD1t6GowDkR9C_!!2219443735852-0-cib

O1CN01vLjFdm1t6GonjHJAi_!!2219443735852-0-cib

ภาพรวมของปริซึมควอตซ์

ควอตซ์หลอมเหลวเป็นรูปแบบอสัณฐานของซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO₂) ที่มีระดับสิ่งเจือปนต่ำมากและมีความเป็นเนื้อเดียวกันทางแสงที่เหนือกว่า คุณสมบัติเหล่านี้ทำให้ปริซึมควอตซ์หลอมเหลวสามารถทำงานได้โดยมีการบิดเบือนน้อยที่สุด แม้ในสภาวะแวดล้อมที่รุนแรง

O1CN01DmfDEC1MukvxLf9vi_!!2945981495-0-cib

O1CN01fwkpJM1MukvrmIxT3_!!2945981495-0-cib

O1CN01JTSwty1MukvvcTej7_!!2945981495-0-cib

คุณสมบัติทางวัสดุของปริซึมควอตซ์

ควอตซ์หลอมเหลวถูกเลือกใช้ในการผลิตปริซึมทางแสงเนื่องจากมีคุณสมบัติเฉพาะตัว:

การส่งผ่านแสงสูง: มีคุณสมบัติการส่งผ่านแสงที่เหนือกว่า ตั้งแต่รังสีอัลตราไวโอเลตลึก (185 นาโนเมตร) ผ่านแสงที่มองเห็นได้ ไปจนถึงแสงอินฟราเรดใกล้ (สูงสุดประมาณ 2500 นาโนเมตร) ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานทั้งในย่าน UV และ IR
เสถียรภาพทางความร้อนดีเยี่ยม: รักษาความสมบูรณ์ทางด้านแสงและกลไกได้ถึงอุณหภูมิที่สูงกว่า 1000°C เหมาะอย่างยิ่งสำหรับระบบแสงที่ใช้งานในอุณหภูมิสูง
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ: มีค่าความคลาดเคลื่อนเพียง ~0.55 × 10⁻⁶ /°C ส่งผลให้มีเสถียรภาพทางมิติที่ดีเยี่ยมภายใต้การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ
ความบริสุทธิ์อันเป็นเลิศโดยทั่วไปจะมีปริมาณ SiO₂ มากกว่า 99.99% ซึ่งช่วยลดความเสี่ยงของการปนเปื้อนของสัญญาณในระบบที่มีความแม่นยำสูง
ทนทานต่อสารเคมีและการกัดกร่อนสูงทนทานต่อกรดและตัวทำละลายส่วนใหญ่ ทำให้เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมทางเคมีที่รุนแรง
ค่าการหักเหของแสงต่ำเหมาะอย่างยิ่งสำหรับระบบที่ไวต่อการโพลาไรเซชัน เนื่องจากมีความเครียดภายในน้อยที่สุด

ประเภทของปริซึมควอตซ์

1. ปริซึมมุมฉาก

โครงสร้าง: ปริซึมสามเหลี่ยมที่มีมุมหนึ่งเป็นมุม 90 องศา และอีกสองมุมเป็นมุม 45 องศา
การทำงาน: เปลี่ยนทิศทางแสงได้ 90° หรือ 180° ขึ้นอยู่กับทิศทางและการใช้งาน
แอปพลิเคชัน: การควบคุมทิศทางลำแสง การหมุนภาพ กล้องปริทัศน์ เครื่องมือจัดแนว

2. ปริซึมลิ่ม

โครงสร้าง: พื้นผิวเรียบสองด้านที่ทำมุมเอียงเล็กน้อยจากกัน (เหมือนชิ้นพายบางๆ)
การทำงาน: เบี่ยงเบนแสงด้วยมุมเล็กน้อยที่แม่นยำ สามารถหมุนเพื่อสแกนลำแสงเป็นวงกลมได้
แอปพลิเคชัน: การควบคุมทิศทางลำแสงเลเซอร์, ระบบปรับแสงอัตโนมัติ, เครื่องมือทางจักษุวิทยา

3. เพนตาปริซึม

โครงสร้าง: ปริซึมห้าเหลี่ยมที่มีพื้นผิวสะท้อนแสงสองด้าน
การทำงาน: หักเหแสงได้ 90° อย่างแม่นยำโดยไม่ขึ้นอยู่กับมุมตกกระทบ รักษาแนวภาพให้คงที่
แอปพลิเคชัน: ช่องมองภาพของกล้อง DSLR, อุปกรณ์สำรวจ, อุปกรณ์ปรับแนวเลนส์

4. โดฟปริซึม

โครงสร้าง: รูปทรงปริซึมยาวและแคบ มีรูปทรงคล้ายสี่เหลี่ยมคางหมู
การทำงาน: หมุนภาพด้วยมุมสองเท่าของมุมการหมุนทางกายภาพของปริซึม
แอปพลิเคชัน: การหมุนภาพในระบบส่งลำแสงและอินเตอร์เฟอโรเมตร

5. ปริซึมหลังคา (ปริซึมอะมิซี)

โครงสร้าง: ปริซึมมุมฉากที่มีขอบ "หลังคา" เป็นรูปตัว V ทำมุม 90 องศา
การทำงาน: กลับภาพและพลิกภาพ โดยคงทิศทางที่ถูกต้องไว้ในกล้องส่องทางไกล
แอปพลิเคชัน: กล้องส่องทางไกล, กล้องส่องดูนก, ระบบเลนส์ขนาดกะทัดรัด

7. ปริซึมกระจกหลังคากลวง

โครงสร้าง: ปริซึมมุมฉากสองอันวางเรียงกันเพื่อสร้างคู่สะท้อนแสงมุมคงที่
การทำงาน: สะท้อนลำแสงขนานกับทิศทางตกกระทบ แต่มีการเลื่อนไปด้านข้างเล็กน้อย เพื่อหลีกเลี่ยงการรบกวน
แอปพลิเคชัน: การพับลำแสงในระบบเลเซอร์, สายหน่วงเวลาแสง, อินเตอร์เฟอโรเมตร

การประยุกต์ใช้ปริซึมควอตซ์หลอม

เนื่องจากคุณสมบัติที่หลากหลาย ปริซึมควอตซ์หลอมจึงถูกนำไปใช้ในระบบออปติคอลระดับสูงหลายประเภท:

สเปกโทรสโกปีปริซึมด้านเท่าและปริซึมกระจายแสงใช้สำหรับการกระจายแสงและการแยกความยาวคลื่นในเครื่องสเปกโทรเมตรและเครื่องโมโนโครมาเตอร์
ระบบเลเซอร์: ปริซึมถูกนำมาใช้ในการควบคุมทิศทาง การรวม หรือการแยกแสงเลเซอร์ ซึ่งค่าความทนทานต่อความเสียหายจากเลเซอร์สูงเป็นสิ่งสำคัญ
การถ่ายภาพด้วยแสงและกล้องจุลทรรศน์ปริซึมมุมฉากและปริซึมรูปนกพิราบช่วยในการหมุนภาพ การจัดแนวลำแสง และการพับเส้นทางแสง
มาตรวิทยาและเครื่องมือวัดความแม่นยำปริซึมเพนตาและปริซึมหลังคาถูกนำไปใช้ในเครื่องมือจัดแนว การวัดระยะทาง และระบบสำรวจทางแสง
การพิมพ์หินยูวีเนื่องจากมีค่าการส่งผ่านรังสียูวีสูง ปริซึมควอตซ์หลอมเหลวจึงถูกนำมาใช้ในเครื่องมือฉายแสงสำหรับการพิมพ์ภาพด้วยแสง (photolithography)
ดาราศาสตร์และกล้องโทรทรรศน์: ใช้ในการแก้ไขการเบี่ยงเบนและการวางแนวของลำแสงโดยไม่ส่งผลกระทบต่อความเที่ยงตรงทางแสง

คำถามที่พบบ่อย – คำถามที่พบบ่อยเกี่ยวกับปริซึมควอตซ์

คำถามที่ 1: ควอตซ์หลอมเหลวกับซิลิกาหลอมเหลวแตกต่างกันอย่างไร?
A: แม้ว่าบางครั้งจะใช้คำสองคำนี้แทนกันได้ แต่โดยทั่วไปแล้ว "ควอตซ์หลอม" หมายถึงแก้วซิลิกาที่ทำจากผลึกควอตซ์ธรรมชาติ ในขณะที่ "ซิลิกาหลอม" ทำจากก๊าซซิลิกาสังเคราะห์ ทั้งสองชนิดมีประสิทธิภาพทางแสงคล้ายกัน แต่ซิลิกาหลอมอาจมีการส่งผ่านรังสียูวีได้ดีกว่าเล็กน้อย

Q2: สามารถเคลือบสารป้องกันแสงสะท้อนบนปริซึมควอตซ์หลอมได้หรือไม่?
A: ใช่ เรามีบริการเคลือบ AR แบบกำหนดเองที่ออกแบบมาสำหรับช่วงความยาวคลื่นเฉพาะ รวมถึง UV, แสงที่มองเห็นได้ และ NIR การเคลือบช่วยเพิ่มการส่งผ่านแสงและลดการสูญเสียจากการสะท้อนที่พื้นผิวปริซึม

Q3: คุณสามารถให้บริการพื้นผิวที่มีคุณภาพแบบใดได้บ้าง?
A: คุณภาพพื้นผิวมาตรฐานคือ 40-20 (รอยขีดข่วน-รอยบุ๋ม) แต่เรายังมีบริการขัดเงาที่มีความแม่นยำสูงกว่านั้น คือ 20-10 หรือดีกว่านั้น ขึ้นอยู่กับการใช้งาน

คำถามที่ 4: ปริซึมควอตซ์เหมาะสำหรับการใช้งานเลเซอร์ยูวีหรือไม่?
A: แน่นอน ปริซึมควอตซ์หลอมรวมมีความโปร่งใสต่อรังสียูวีสูงและทนต่อความเสียหายจากเลเซอร์ได้ดี จึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับเลเซอร์ยูวี รวมถึงแหล่งกำเนิดแสงแบบเอ็กไซเมอร์และแบบโซลิดสเตท

เกี่ยวกับเรา

XKH เชี่ยวชาญด้านการพัฒนา การผลิต และการขายเทคโนโลยีขั้นสูงของกระจกออปติคอลพิเศษและวัสดุคริสตัลใหม่ ผลิตภัณฑ์ของเราให้บริการด้านอิเล็กทรอนิกส์เชิงแสง อิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค และการทหาร เรานำเสนอชิ้นส่วนออปติคอลแซฟไฟร์ ฝาครอบเลนส์โทรศัพท์มือถือ เซรามิก LT ซิลิคอนคาร์ไบด์ SIC ควอตซ์ และแผ่นเวเฟอร์คริสตัลเซมิคอนดักเตอร์ ด้วยความเชี่ยวชาญและอุปกรณ์ที่ทันสมัย เราโดดเด่นในการแปรรูปผลิตภัณฑ์ที่ไม่เป็นไปตามมาตรฐาน โดยมุ่งมั่นที่จะเป็นผู้นำด้านเทคโนโลยีขั้นสูงของวัสดุออปโตอิเล็กทรอนิกส์