ท่อเตาเผาแนวตั้ง SiC สำหรับงานอุตสาหกรรม มีค่าการนำความร้อนสูงและทนทานต่อการกัดกร่อน
แผนภาพโดยละเอียด
ท่อเตาเผาแนวตั้งทำจากซิลิคอนคาร์ไบด์ — ภาพรวมผลิตภัณฑ์
แผ่นกระจกควอตซ์ หรือที่รู้จักกันในชื่อแผ่นซิลิกาหลอมเหลวหรือแผ่นควอตซ์ เป็นวัสดุพิเศษที่ผลิตจากซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO₂) บริสุทธิ์สูง แผ่นโปร่งใสและทนทานเหล่านี้มีคุณค่าเนื่องจากมีความใสของแสงที่ดีเยี่ยม ทนความร้อน และมีเสถียรภาพทางเคมี ด้วยคุณสมบัติที่เหนือกว่าเหล่านี้ แผ่นกระจกควอตซ์จึงถูกนำไปใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมต่างๆ รวมถึงเซมิคอนดักเตอร์ ออปติก โฟโตนิกส์ พลังงานแสงอาทิตย์ โลหะวิทยา และการใช้งานในห้องปฏิบัติการขั้นสูง
แผ่นกระจกควอตซ์ของเราผลิตจากวัตถุดิบคุณภาพสูง เช่น ผลึกธรรมชาติหรือซิลิกาสังเคราะห์ ผ่านกระบวนการหลอมและการขัดเงาอย่างแม่นยำ ผลลัพธ์ที่ได้คือพื้นผิวเรียบสนิท มีสิ่งเจือปนต่ำ และปราศจากฟองอากาศ ซึ่งตรงตามข้อกำหนดที่เข้มงวดที่สุดของกระบวนการทางอุตสาหกรรมสมัยใหม่
คุณสมบัติหลัก
โครงสร้างพิมพ์ 3 มิติแบบชิ้นเดียว
ขจัดรอยต่อและจุดรวมความเค้น เพื่อเพิ่มความแข็งแรงและความน่าเชื่อถือเชิงกลให้สูงสุด
สิ่งเจือปนต่ำมาก
วัสดุพื้นฐาน300 ppmพื้นผิวเคลือบ CVD5 ppm—ลดการปนเปื้อนให้น้อยที่สุดเพื่อกระบวนการผลิตที่สะอาดเป็นพิเศษ
การนำความร้อนสูง
การถ่ายเทความร้อนที่รวดเร็วและสม่ำเสมอช่วยให้สามารถควบคุมอุณหภูมิได้อย่างแม่นยำและมีความสม่ำเสมอทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์
ทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลันได้ดีเยี่ยม
ทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิร้อน/เย็นบ่อยครั้งโดยไม่แตกร้าว ช่วยยืดอายุการใช้งานและลดค่าใช้จ่ายในการบำรุงรักษา
ทนทานต่อการกัดกร่อนเป็นเลิศ
พื้นผิว CVD SiC ช่วยป้องกันสารเคมีรุนแรงและสภาพแวดล้อมที่หลากหลาย เพื่อความเสถียรในระยะยาว
แอปพลิเคชัน
-
เซมิคอนดักเตอร์:กระบวนการออกซิเดชัน การแพร่กระจาย การอบอ่อน—ขั้นตอนใดๆ ก็ตามที่ต้องการความสม่ำเสมอของอุณหภูมิและความสะอาดอย่างเข้มงวด
-
เซลล์แสงอาทิตย์:การสร้างพื้นผิวเวเฟอร์ การแพร่กระจาย และการเคลือบผิวด้วยผลลัพธ์ที่เสถียรและทำซ้ำได้
-
วัสดุขั้นสูงและการอบชุบด้วยความร้อน:สภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงสม่ำเสมอสำหรับอุปกรณ์วิจัยและพัฒนาและการผลิต
คำถามที่พบบ่อย
คำถามที่ 1: การใช้งานหลัก?
A:กระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โฟโตโวลตาอิก และวัสดุขั้นสูง เช่น การแพร่ การออกซิเดชัน การอบอ่อน และการเคลือบผิว ซึ่งความสม่ำเสมอของบรรยากาศและอุณหภูมิเป็นปัจจัยสำคัญต่อผลผลิต
Q2: อุณหภูมิใช้งานสูงสุด?
A:ได้รับการจัดอันดับให้≤ 1300 ℃โดยทั่วไปการทำงานต่อเนื่องจะอยู่ที่ประมาณ1200 ℃มีเสถียรภาพทางโครงสร้างที่ยอดเยี่ยม
Q3: เมื่อเทียบกับท่อควอตซ์หรือท่ออลูมินาแล้วเป็นอย่างไร?
A:ซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) มีคุณสมบัติเด่นในด้านความสามารถในการทำงานที่อุณหภูมิสูงกว่า การนำความร้อนที่ดีกว่ามาก ความต้านทานต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลันที่เหนือกว่า อายุการใช้งานที่ยาวนานกว่า และระดับสิ่งเจือปนที่ต่ำกว่าอย่างเห็นได้ชัด ซึ่งเหมาะอย่างยิ่งสำหรับความต้องการในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และเซลล์แสงอาทิตย์ในปัจจุบัน
เกี่ยวกับเรา
XKH เชี่ยวชาญด้านการพัฒนา การผลิต และการขายเทคโนโลยีขั้นสูงของกระจกออปติคอลพิเศษและวัสดุคริสตัลใหม่ ผลิตภัณฑ์ของเราให้บริการด้านอิเล็กทรอนิกส์เชิงแสง อิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค และการทหาร เรานำเสนอชิ้นส่วนออปติคอลแซฟไฟร์ ฝาครอบเลนส์โทรศัพท์มือถือ เซรามิก LT ซิลิคอนคาร์ไบด์ SIC ควอตซ์ และแผ่นเวเฟอร์คริสตัลเซมิคอนดักเตอร์ ด้วยความเชี่ยวชาญและอุปกรณ์ที่ทันสมัย เราโดดเด่นในการแปรรูปผลิตภัณฑ์ที่ไม่เป็นไปตามมาตรฐาน โดยมุ่งมั่นที่จะเป็นผู้นำด้านเทคโนโลยีขั้นสูงของวัสดุออปโตอิเล็กทรอนิกส์
