กระจกออปติคอลซิลิกาหลอมเหลว JGS1, JGS2 และ JGS3

คำอธิบายโดยย่อ:

“ซิลิกาหลอมเหลว” หรือ “ควอตซ์หลอมเหลว” คือเฟสอสัณฐานของควอตซ์ (SiO2) เมื่อเปรียบเทียบกับกระจกโบโรซิลิเกต ซิลิกาหลอมเหลวไม่มีสารเติมแต่ง ดังนั้นจึงอยู่ในรูปบริสุทธิ์คือ SiO2 ซิลิกาหลอมเหลวมีการส่งผ่านแสงในสเปกตรัมอินฟราเรดและอัลตราไวโอเลตสูงกว่ากระจกทั่วไป ซิลิกาหลอมเหลวผลิตโดยการหลอมและทำให้แข็งตัวใหม่ของ SiO2 บริสุทธิ์สูง ในขณะที่ซิลิกาหลอมเหลวสังเคราะห์ทำจากสารตั้งต้นทางเคมีที่อุดมด้วยซิลิคอน เช่น SiCl4 ซึ่งถูกทำให้เป็นแก๊สแล้วออกซิไดซ์ในบรรยากาศ H2 + O2 ฝุ่น SiO2 ที่เกิดขึ้นในกรณีนี้จะถูกหลอมรวมกับซิลิกาบนพื้นผิว บล็อกซิลิกาหลอมเหลวจะถูกตัดเป็นแผ่นบางๆ จากนั้นจึงขัดเงาแผ่นบางเหล่านั้น

ส่งอีเมลถึงเรา

คุณสมบัติ

แผนภาพโดยละเอียด

ภาพรวมของซิลิกาหลอมเหลว JGS1, JGS2 และ JGS3

JGS1, JGS2 และ JGS3 เป็นซิลิกาหลอมเหลวสามเกรดที่ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมอย่างแม่นยำ โดยแต่ละเกรดได้รับการออกแบบมาสำหรับช่วงสเปกตรัมแสงที่เฉพาะเจาะจง ผลิตจากซิลิกาที่มีความบริสุทธิ์สูงมากผ่านกระบวนการหลอมขั้นสูง วัสดุเหล่านี้มีคุณสมบัติเด่นด้านความใสของแสง การขยายตัวทางความร้อนต่ำ และความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยม

เจจีเอส1– ซิลิกาหลอมเหลวเกรด UV ที่ได้รับการปรับแต่งเพื่อการส่งผ่านรังสีอัลตราไวโอเลตในระดับลึก
เจจีเอส2– ซิลิกาหลอมเหลวเกรดสำหรับงานด้านทัศนศาสตร์ สำหรับการใช้งานในช่วงคลื่นแสงที่มองเห็นได้จนถึงใกล้อินฟราเรด
เจจีเอส3– ซิลิกาหลอมเหลวเกรด IR ที่มีประสิทธิภาพด้านอินฟราเรดสูงขึ้น

ด้วยการเลือกเกรดที่เหมาะสม วิศวกรสามารถบรรลุประสิทธิภาพการส่งผ่านแสง ความทนทาน และเสถียรภาพสูงสุดสำหรับระบบออปติคอลที่ต้องการประสิทธิภาพสูง

ระดับชั้น JGS1, JGS2 และ JGS3

JGS1 ฟิวส์ซิลิกา – เกรด UV

ระยะการส่งสัญญาณ:185–2500 นาโนเมตร
จุดแข็งหลัก:ความโปร่งใสที่เหนือกว่าในย่านความยาวคลื่น UV ลึก

ซิลิกาหลอมเหลว JGS1 ผลิตขึ้นโดยใช้ซิลิกาบริสุทธิ์สังเคราะห์ที่มีระดับสิ่งเจือปนควบคุมอย่างระมัดระวัง จึงให้ประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยมในระบบ UV โดยมีค่าการส่งผ่านแสงสูงในช่วงความยาวคลื่นต่ำกว่า 250 นาโนเมตร มีการเรืองแสงอัตโนมัติต่ำมาก และทนทานต่อการเสื่อมสภาพจากแสงแดดได้ดี

ไฮไลท์การแข่งขัน JGS1:

การส่งผ่านแสงมากกว่า 90% ตั้งแต่ 200 นาโนเมตรจนถึงช่วงแสงที่มองเห็นได้
มีปริมาณไฮดรอกซิล (OH) ต่ำ เพื่อลดการดูดซับรังสียูวี
ค่าความทนทานต่อความเสียหายจากเลเซอร์สูง เหมาะสำหรับเลเซอร์เอ็กไซเมอร์
ลดการเรืองแสงให้น้อยที่สุดเพื่อการวัดรังสียูวีที่แม่นยำ

การใช้งานทั่วไป:

เลนส์ฉายภาพโฟโตลิโทกราฟี
หน้าต่างและเลนส์เลเซอร์เอ็กไซเมอร์ (193 นาโนเมตร, 248 นาโนเมตร)
เครื่องสเปกโทรเมตรยูวีและเครื่องมือทางวิทยาศาสตร์
การวัดความแม่นยำสูงสำหรับการตรวจสอบด้วยรังสียูวี

JGS2 ฟิวส์ซิลิกา – เกรดสำหรับงานด้านทัศนศาสตร์

ระยะการส่งสัญญาณ:220–3500 นาโนเมตร
จุดแข็งหลัก:ประสิทธิภาพทางแสงที่สมดุลตั้งแต่ช่วงแสงที่มองเห็นได้จนถึงช่วงใกล้อินฟราเรด

JGS2 ได้รับการออกแบบมาสำหรับระบบออปติคอลอเนกประสงค์ที่ให้ความสำคัญกับประสิทธิภาพในแสงที่มองเห็นได้และแสงอินฟราเรดใกล้ แม้ว่าจะมีการส่งผ่านรังสียูวีในระดับปานกลาง แต่คุณค่าหลักของมันอยู่ที่ความสม่ำเสมอทางแสง การบิดเบือนของหน้าคลื่นต่ำ และความทนทานต่อความร้อนที่ดีเยี่ยม

ไฮไลท์ด้านประสิทธิภาพของ JGS2:

มีค่าการส่งผ่านแสงสูงตลอดช่วงคลื่นแสงที่มองเห็นได้จนถึงอินฟราเรดใกล้
ความสามารถในการทนต่อรังสียูวีได้ถึงระดับ ~220 นาโนเมตร เหมาะสำหรับการใช้งานที่ยืดหยุ่น
ทนทานต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลันและแรงทางกลได้ดีเยี่ยม
ดัชนีหักเหสม่ำเสมอโดยมีการหักเหสองทิศทางน้อยที่สุด

การใช้งานทั่วไป:

เลนส์ถ่ายภาพความแม่นยำสูง
ช่องรับแสงเลเซอร์สำหรับช่วงคลื่นแสงที่มองเห็นได้และช่วงคลื่นแสงอินฟราเรดใกล้
อุปกรณ์แยกแสง ตัวกรอง และปริซึม
ส่วนประกอบทางแสงสำหรับระบบกล้องจุลทรรศน์และระบบฉายภาพ

JGS3 ฟิวส์ซิลิกา – IR

ระดับ

ระยะการส่งสัญญาณ:260–3500 นาโนเมตร
จุดแข็งหลัก:การส่งผ่านรังสีอินฟราเรดที่เหมาะสมที่สุด พร้อมการดูดซับ OH ต่ำ

ซิลิกาหลอมเหลว JGS3 ได้รับการออกแบบมาเพื่อให้มีความโปร่งใสต่อรังสีอินฟราเรดสูงสุด โดยการลดปริมาณไฮดรอกซิลในระหว่างกระบวนการผลิต ซึ่งจะช่วยลดจุดดูดกลืนแสงที่ความยาวคลื่นประมาณ 2.73 ไมโครเมตร และ 4.27 ไมโครเมตร ซึ่งอาจทำให้ประสิทธิภาพลดลงในการใช้งานด้านรังสีอินฟราเรด

ไฮไลท์การแสดงของ JGS3:

การส่งผ่านรังสีอินฟราเรดดีกว่า JGS1 และ JGS2
การสูญเสียการดูดซับที่เกี่ยวข้องกับ OH น้อยที่สุด
ทนทานต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิได้ดีเยี่ยม
มีเสถียรภาพในระยะยาวในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูง

การใช้งานทั่วไป:

หลอดทดลองและหน้าต่างสำหรับสเปกโทรสโกปีอินฟราเรด
การถ่ายภาพความร้อนและเลนส์เซ็นเซอร์
ฝาครอบป้องกันรังสีอินฟราเรดในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง
ช่องมองภาพสำหรับงานอุตสาหกรรมในกระบวนการผลิตที่อุณหภูมิสูง

ข้อมูลเปรียบเทียบที่สำคัญของ JGS1, JGS2 และ JGS3

รายการ	เจจีเอส1	เจจีเอส2	เจจีเอส3
ขนาดสูงสุด	<Φ200mm	<Φ300mm	<Φ200mm
ช่วงระยะการส่งกำลัง (อัตราทดเกียร์ปานกลาง)	0.17~2.10 ไมโครเมตร (เฉลี่ย >90%)	0.26~2.10 ไมโครเมตร (เฉลี่ย >85%)	0.185~3.50 ไมโครเมตร (เฉลี่ย >85%)
OH- เนื้อหา	1200 ppm	150 ppm	5 ppm
การเรืองแสง (เช่น 254 นาโนเมตร)	แทบจะฟรี	วีบีที่แข็งแกร่ง	วีบีที่แข็งแกร่ง
ปริมาณสารปนเปื้อน	5 ppm	20-40 ppm	40-50 ppm
ค่าคงที่การหักเหสองทิศทาง	2-4 นาโนเมตร/ซม.	4-6 นาโนเมตร/ซม.	4-10 นาโนเมตร/ซม.
วิธีการหลอม	ซีวีดีสังเคราะห์	การหลอมเหลวของออกซิเจน-ไฮโดรเจน	การหลอมด้วยไฟฟ้า
แอปพลิเคชัน	วัสดุตั้งต้นสำหรับเลเซอร์: หน้าต่าง เลนส์ ปริซึม กระจกเงา...	เซมิคอนดักเตอร์และหน้าต่างอุณหภูมิสูง	อินฟราเรดและยูวี สารตั้งต้น

คำถามที่พบบ่อย – ซิลิกาหลอมเหลว JGS1, JGS2 และ JGS3

คำถามที่ 1: ความแตกต่างหลักระหว่าง JGS1, JGS2 และ JGS3 คืออะไร?
A:

เจจีเอส1– ซิลิกาหลอมเหลวเกรด UV ที่มีการส่งผ่านแสงที่ยอดเยี่ยมตั้งแต่ 185 นาโนเมตร เหมาะอย่างยิ่งสำหรับเลนส์ UV ช่วงคลื่นลึกและเลเซอร์เอ็กไซเมอร์
เจจีเอส2– ซิลิกาหลอมเหลวเกรดทางแสง สำหรับการใช้งานในช่วงคลื่นแสงที่มองเห็นได้จนถึงใกล้อินฟราเรด (220–3500 นาโนเมตร) เหมาะสำหรับงานด้านเลนส์ทั่วไป
เจจีเอส3– ซิลิกาหลอมเหลวเกรด IR ที่ได้รับการปรับให้เหมาะสมสำหรับรังสีอินฟราเรด (260–3500 นาโนเมตร) โดยมีพีคการดูดกลืน OH ลดลง

คำถามที่ 2: ฉันควรเลือกเกรดใดสำหรับการสมัครเรียน?
A:

เลือกเจจีเอส1สำหรับงานพิมพ์หินด้วยรังสียูวี, สเปกโทรสโกปีด้วยรังสียูวี หรือระบบเลเซอร์ 193 นาโนเมตร/248 นาโนเมตร
เลือกเจจีเอส2สำหรับงานถ่ายภาพในช่วงคลื่นแสงที่มองเห็นได้/อินฟราเรดใกล้, เลนส์เลเซอร์ และอุปกรณ์วัด
เลือกเจจีเอส3สำหรับงานสเปกโทรสโกปีอินฟราเรด การถ่ายภาพความร้อน หรือหน้าต่างสำหรับมองในอุณหภูมิสูง

คำถามที่ 3: นักเรียน JGS ทุกระดับชั้นมีพละกำลังทางกายภาพเท่ากันหรือไม่?
A:ใช่แล้ว JGS1, JGS2 และ JGS3 มีคุณสมบัติทางกลเหมือนกันทั้งหมด ได้แก่ ความหนาแน่น ความแข็ง และการขยายตัวทางความร้อน เนื่องจากผลิตจากซิลิกาหลอมบริสุทธิ์สูง ความแตกต่างหลักๆ อยู่ที่คุณสมบัติทางแสง

Q4: JGS1, JGS2 และ JGS3 ทนทานต่อความเสียหายจากเลเซอร์หรือไม่?
A:ใช่แล้ว วัสดุทุกเกรดมีค่าความทนทานต่อความเสียหายจากเลเซอร์สูง (>20 J/cm² ที่ 1064 nm, พัลส์ 10 ns) สำหรับเลเซอร์ UV นั้นเจจีเอส1มีความทนทานต่อแสงแดดและการเสื่อมสภาพของพื้นผิวได้ดีที่สุด

เกี่ยวกับเรา

XKH เชี่ยวชาญด้านการพัฒนา การผลิต และการขายเทคโนโลยีขั้นสูงของกระจกออปติคอลพิเศษและวัสดุคริสตัลใหม่ ผลิตภัณฑ์ของเราให้บริการด้านอิเล็กทรอนิกส์เชิงแสง อิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค และการทหาร เรานำเสนอชิ้นส่วนออปติคอลแซฟไฟร์ ฝาครอบเลนส์โทรศัพท์มือถือ เซรามิก LT ซิลิคอนคาร์ไบด์ SIC ควอตซ์ และแผ่นเวเฟอร์คริสตัลเซมิคอนดักเตอร์ ด้วยความเชี่ยวชาญและอุปกรณ์ที่ทันสมัย เราโดดเด่นในการแปรรูปผลิตภัณฑ์ที่ไม่เป็นไปตามมาตรฐาน โดยมุ่งมั่นที่จะเป็นผู้นำด้านเทคโนโลยีขั้นสูงของวัสดุออปโตอิเล็กทรอนิกส์