แท่งแซฟไฟร์ 3 นิ้ว 4 นิ้ว 6 นิ้ว โมโนคริสตัล CZ วิธี KY ปรับแต่งได้

ความบริสุทธิ์และคุณภาพที่ยอดเยี่ยม:
แท่งแซฟไฟร์ถูกประดิษฐ์ขึ้นจากอะลูมิเนียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง (99.999%) ทำให้มีโครงสร้างโมโนคริสตัลที่ไร้ตำหนิ เทคนิคการสร้างผลึกขั้นสูงที่ใช้ในระหว่างการผลิตช่วยลดข้อบกพร่อง เช่น รูพรุน เศษ และฝาแฝด ทำให้ได้แท่งที่มีการเคลื่อนตัวน้อยที่สุดและมีประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม

ขนาดและการปรับแต่งที่หลากหลาย:
แท่งโลหะเหล่านี้มีให้เลือกหลายขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางมาตรฐาน 3 นิ้ว 4 นิ้ว และ 6 นิ้ว โดยสามารถปรับแต่งได้ตามความต้องการเฉพาะของการใช้งานเฉพาะ สามารถปรับแต่งได้ เช่น เส้นผ่านศูนย์กลาง ความยาว ทิศทาง และการตกแต่งพื้นผิว ทำให้เหมาะสำหรับอุตสาหกรรมต่างๆ มากมาย

ความโปร่งใสของแสงกว้าง:
แซฟไฟร์มีความโปร่งใสที่ยอดเยี่ยมในช่วงความยาวคลื่นกว้าง ตั้งแต่ช่วงอุลตราไวโอเลต (150 นาโนเมตร) ไปจนถึงช่วงอินฟราเรดกลาง (5,500 นาโนเมตร) ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานออปติกที่ต้องการความคมชัดสูงและการดูดซับแสงน้อยที่สุด

คุณสมบัติเชิงกลที่โดดเด่น:
แซฟไฟร์มีความแข็งเป็นอันดับ 9 ตามมาตราโมห์ส รองจากเพชรเท่านั้น แซฟไฟร์มีความทนทานและทนต่อรอยขีดข่วนเป็นพิเศษ จึงใช้งานได้ยาวนานแม้ในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง

เสถียรภาพทางความร้อนและสารเคมี:
แท่งแซฟไฟร์สามารถทนต่ออุณหภูมิที่รุนแรงได้สูงถึง 2,000°C โดยไม่สูญเสียความสมบูรณ์ นอกจากนี้ยังไม่ทำปฏิกิริยาทางเคมี ทำให้ทนทานต่อกรด ด่าง และสารกัดกร่อนอื่นๆ ได้เป็นอย่างดี

กระบวนการผลิต
วิธีการ Czochralski (CZ):

เทคนิคนี้เกี่ยวข้องกับการดึงผลึกเดี่ยวจากอ่างอะลูมิเนียมออกไซด์หลอมเหลวโดยใช้การควบคุมความร้อนและการหมุนที่แม่นยำ
ผลิตแท่งโลหะคุณภาพสูงที่มีความหนาแน่นของข้อบกพร่องต่ำ เหมาะสำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์ออปติกส์
วิธี Kyropoulos (KY):

กระบวนการนี้จะทำให้ได้คริสตัลแซฟไฟร์คุณภาพสูงขนาดใหญ่โดยการทำให้อลูมิเนียมออกไซด์ที่หลอมละลายเย็นตัวลงอย่างช้าๆ
แท่งแซฟไฟร์ที่ปลูกใน KY ได้รับการยกย่องเป็นพิเศษเนื่องจากมีความเครียดต่ำและคุณสมบัติที่สม่ำเสมอ ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานที่มีประสิทธิภาพสูง
ทั้งสองวิธีได้รับการออกแบบมาเพื่อให้ได้แท่งโลหะที่มีความใสเหนือระดับ ความหนาแน่นของการเคลื่อนตัวขั้นต่ำ (EPD ≤ 1000/cm²) และคุณสมบัติทางกายภาพที่สม่ำเสมอ