SiC เวเฟอร์ 4H-N 6H-N HPSI 4H-semi 6H-semi 4H-P 6H-P 3C ประเภท 2 นิ้ว 3 นิ้ว 4 นิ้ว 6 นิ้ว 8 นิ้ว
คุณสมบัติ
4H-N และ 6H-N (เวเฟอร์ SiC ชนิด N)
แอปพลิเคชัน:ส่วนใหญ่ใช้อยู่ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลัง อุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ และการใช้งานที่อุณหภูมิสูง
ช่วงเส้นผ่านศูนย์กลาง:50.8 มม. ถึง 200 มม.
ความหนา:350 μm ± 25 μm โดยมีความหนาให้เลือก 500 μm ± 25 μm
ความต้านทาน:4H/6H-P ชนิด N: ≤ 0.1 Ω·cm (เกรด Z), ≤ 0.3 Ω·cm (เกรด P); 3C-N ชนิด N: ≤ 0.8 mΩ·cm (เกรด Z), ≤ 1 mΩ·cm (เกรด P)
ความหยาบ:Ra ≤ 0.2 nm (CMP หรือ MP)
ความหนาแน่นของไมโครไพป์ (MPD):< 1 ชิ้น/ตร.ซม.
ทีทีวี: ≤ 10 μm สำหรับเส้นผ่านศูนย์กลางทั้งหมด
การบิดตัว: ≤ 30 μm (≤ 45 μm สำหรับเวเฟอร์ขนาด 8 นิ้ว)
การยกเว้นขอบ:3 มม. ถึง 6 มม. ขึ้นอยู่กับประเภทของเวเฟอร์
บรรจุภัณฑ์:ตลับบรรจุเวเฟอร์หลายแผ่น หรือ ภาชนะใส่เวเฟอร์แผ่นเดียว
ขนาดอื่นๆที่มีจำหน่าย 3นิ้ว 4นิ้ว 6นิ้ว 8นิ้ว
HPSI (เวเฟอร์ SiC กึ่งฉนวนที่มีความบริสุทธิ์สูง)
แอปพลิเคชัน:ใช้สำหรับอุปกรณ์ที่ต้องการความต้านทานสูงและประสิทธิภาพเสถียร เช่น อุปกรณ์ RF แอปพลิเคชันโฟโตนิกส์ และเซ็นเซอร์
ช่วงเส้นผ่านศูนย์กลาง:50.8 มม. ถึง 200 มม.
ความหนา:ความหนามาตรฐาน 350 μm ± 25 μm และมีตัวเลือกสำหรับเวเฟอร์ที่หนาขึ้นได้ถึง 500 μm
ความหยาบ:Ra ≤ 0.2 นาโนเมตร
ความหนาแน่นของไมโครไพป์ (MPD): ≤ 1 ชิ้น/ตร.ซม.
ความต้านทาน:ความต้านทานสูง โดยทั่วไปใช้ในงานกึ่งฉนวน
การบิดตัว: ≤ 30 μm (สำหรับขนาดเล็ก) ≤ 45 μm สำหรับเส้นผ่านศูนย์กลางที่ใหญ่กว่า
ทีทีวี: ≤ 10 ไมโครเมตร
ขนาดอื่นๆที่มีจำหน่าย 3นิ้ว 4นิ้ว 6นิ้ว 8นิ้ว
4เอช-พี-6เอช-พี-3C เวเฟอร์ SiC(เวเฟอร์ SiC ชนิด P)
แอปพลิเคชัน:ส่วนใหญ่ใช้สำหรับอุปกรณ์ไฟฟ้าและความถี่สูง
ช่วงเส้นผ่านศูนย์กลาง:50.8 มม. ถึง 200 มม.
ความหนา:350 μm ± 25 μm หรือตัวเลือกที่กำหนดเอง
ความต้านทาน:ประเภท P 4H/6H-P: ≤ 0.1 Ω·cm (เกรด Z), ≤ 0.3 Ω·cm (เกรด P)
ความหยาบ:Ra ≤ 0.2 nm (CMP หรือ MP)
ความหนาแน่นของไมโครไพป์ (MPD):< 1 ชิ้น/ตร.ซม.
ทีทีวี: ≤ 10 ไมโครเมตร
การยกเว้นขอบ:3 มม. ถึง 6 มม.
การบิดตัว: ≤ 30 μm สำหรับขนาดที่เล็ก ≤ 45 μm สำหรับขนาดที่ใหญ่กว่า
ขนาดอื่นๆ ที่มี 3 นิ้ว 4 นิ้ว 6 นิ้ว5×5 10×10
ตารางพารามิเตอร์ข้อมูลบางส่วน
คุณสมบัติ | 2 นิ้ว | 3นิ้ว | 4นิ้ว | 6นิ้ว | 8นิ้ว | |||
พิมพ์ | 4H-N/เอชพีเอสไอ/ | 4H-N/เอชพีเอสไอ/ | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI/4H-เซมิ | |||
เส้นผ่านศูนย์กลาง | 50.8 ± 0.3 มม. | 76.2±0.3มม. | 100±0.3มม. | 150±0.3มม. | 200 ± 0.3 มม. | |||
ความหนา | 330 ± 25 ไมโครเมตร | 350 ±25 ไมโครเมตร | 350 ±25 ไมโครเมตร | 350 ±25 ไมโครเมตร | 350 ±25 ไมโครเมตร | |||
350±25ไมโครเมตร | 500±25ไมโครเมตร | 500±25ไมโครเมตร | 500±25ไมโครเมตร | 500±25ไมโครเมตร | ||||
หรือกำหนดเอง | หรือกำหนดเอง | หรือกำหนดเอง | หรือกำหนดเอง | หรือกำหนดเอง | ||||
ความหยาบ | รา≤ 0.2นาโนเมตร | รา≤ 0.2นาโนเมตร | รา≤ 0.2นาโนเมตร | รา≤ 0.2นาโนเมตร | รา≤ 0.2นาโนเมตร | |||
การบิดเบี้ยว | ≤ 30ไมโครเมตร | ≤ 30ไมโครเมตร | ≤ 30ไมโครเมตร | ≤ 30ไมโครเมตร | ≤45ไมโครเมตร | |||
ทีทีวี | ≤ 10ไมโครเมตร | ≤ 10ไมโครเมตร | ≤ 10ไมโครเมตร | ≤ 10ไมโครเมตร | ≤ 10ไมโครเมตร | |||
ขูด/ขุด | ซีเอ็มพี/ส.ส. | |||||||
เอ็มพีดี | <1ชิ้น/ซม.-2 | <1ชิ้น/ซม.-2 | <1ชิ้น/ซม.-2 | <1ชิ้น/ซม.-2 | <1ชิ้น/ซม.-2 | |||
รูปร่าง | กลม แบน 16มม. ความยาว OF 22มม. ความยาว OF 30/32.5มม. ความยาว OF 47.5มม. รอยบาก รอยบาก | |||||||
เอียง | 45°, สเปก SEMI; รูปทรง C | |||||||
ระดับ | เกรดการผลิตสำหรับ MOS&SBD; เกรดการวิจัย; เกรดจำลอง เกรดเวเฟอร์เมล็ดพันธุ์ | |||||||
หมายเหตุ | เส้นผ่านศูนย์กลาง ความหนา ทิศทาง ข้อมูลจำเพาะด้านบนสามารถปรับแต่งได้ตามคำขอของคุณ |
แอปพลิเคชั่น
-เครื่องใช้ไฟฟ้ากำลังสูง
เวเฟอร์ SiC ชนิด N มีความสำคัญต่ออุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังเนื่องจากสามารถรองรับแรงดันไฟฟ้าสูงและกระแสไฟฟ้าสูงได้ เวเฟอร์ชนิดนี้มักใช้ในตัวแปลงไฟฟ้า อินเวอร์เตอร์ และไดรฟ์มอเตอร์สำหรับอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น พลังงานหมุนเวียน ยานยนต์ไฟฟ้า และระบบอัตโนมัติในอุตสาหกรรม
· ออปโตอิเล็กทรอนิกส์
วัสดุ SiC ชนิด N สำหรับการใช้งานออปโตอิเล็กทรอนิกส์โดยเฉพาะ ใช้ในอุปกรณ์ เช่น ไดโอดเปล่งแสง (LED) และไดโอดเลเซอร์ การนำความร้อนสูงและแบนด์แก็ปกว้างทำให้วัสดุชนิดนี้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ประสิทธิภาพสูง
-การใช้งานที่อุณหภูมิสูง
เวเฟอร์ SiC 4H-N 6H-N เหมาะอย่างยิ่งสำหรับสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูง เช่น ในเซ็นเซอร์และอุปกรณ์ไฟฟ้าที่ใช้ในอวกาศ ยานยนต์ และการใช้งานในอุตสาหกรรมที่การกระจายความร้อนและเสถียรภาพที่อุณหภูมิสูงเป็นสิ่งสำคัญ
-อุปกรณ์ RF
เวเฟอร์ SiC 4H-N 6H-N ใช้ในอุปกรณ์ความถี่วิทยุ (RF) ที่ทำงานในช่วงความถี่สูง ใช้ในระบบสื่อสาร เทคโนโลยีเรดาร์ และการสื่อสารผ่านดาวเทียม ซึ่งต้องการประสิทธิภาพและสมรรถนะด้านพลังงานสูง
-การประยุกต์ใช้โฟตอนิกส์
ในโฟโตนิกส์ เวเฟอร์ SiC ถูกใช้ในอุปกรณ์ต่างๆ เช่น โฟโตดีเทกเตอร์และโมดูเลเตอร์ คุณสมบัติเฉพาะตัวของวัสดุทำให้มีประสิทธิภาพในการสร้างแสง การปรับ และการตรวจจับในระบบสื่อสารออปติกและอุปกรณ์ถ่ายภาพ
-เซ็นเซอร์
เวเฟอร์ SiC ใช้ในแอพพลิเคชั่นเซ็นเซอร์ต่างๆ โดยเฉพาะในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง ซึ่งวัสดุอื่นๆ อาจเสียหายได้ ซึ่งรวมถึงเซ็นเซอร์อุณหภูมิ แรงดัน และสารเคมี ซึ่งมีความจำเป็นในสาขาต่างๆ เช่น ยานยนต์ น้ำมันและก๊าซ และการตรวจสอบสิ่งแวดล้อม
-ระบบขับเคลื่อนรถยนต์ไฟฟ้า
เทคโนโลยี SiC มีบทบาทสำคัญในยานยนต์ไฟฟ้าโดยช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและสมรรถนะของระบบขับเคลื่อน ด้วยเซมิคอนดักเตอร์กำลังไฟฟ้า SiC ยานยนต์ไฟฟ้าจึงมีอายุการใช้งานแบตเตอรี่ที่ยาวนานขึ้น เวลาในการชาร์จเร็วขึ้น และประสิทธิภาพการใช้พลังงานที่สูงขึ้น
-เซ็นเซอร์ขั้นสูงและตัวแปลงโฟโตนิก
ในเทคโนโลยีเซ็นเซอร์ขั้นสูง เวเฟอร์ SiC ถูกใช้เพื่อสร้างเซ็นเซอร์ที่มีความแม่นยำสูงสำหรับการใช้งานในหุ่นยนต์ อุปกรณ์ทางการแพทย์ และการตรวจสอบสิ่งแวดล้อม ในตัวแปลงโฟโตนิก คุณสมบัติของ SiC จะถูกใช้ประโยชน์เพื่อให้สามารถแปลงพลังงานไฟฟ้าเป็นสัญญาณออปติกได้อย่างมีประสิทธิภาพ ซึ่งมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อโครงสร้างพื้นฐานด้านโทรคมนาคมและอินเทอร์เน็ตความเร็วสูง
ถาม-ตอบ
Q:4H ใน 4H SiC คืออะไร?
A:"4H" ใน 4H SiC หมายถึงโครงสร้างผลึกของซิลิกอนคาร์ไบด์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งรูปทรงหกเหลี่ยมที่มีสี่ชั้น (H) "H" ระบุประเภทของโพลีไทป์หกเหลี่ยม ซึ่งแตกต่างจากโพลีไทป์ SiC อื่นๆ เช่น 6H หรือ 3C
Q:ค่าการนำความร้อนของ 4H-SiC คืออะไร?
A:ค่าการนำความร้อนของ 4H-SiC (ซิลิกอนคาร์ไบด์) อยู่ที่ประมาณ 490-500 W/m·K ที่อุณหภูมิห้อง ค่าการนำความร้อนที่สูงนี้จึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังและสภาพแวดล้อมอุณหภูมิสูง ซึ่งการระบายความร้อนอย่างมีประสิทธิภาพเป็นสิ่งสำคัญ