วิธีการประมวลผลพื้นผิวของแท่งเลเซอร์คริสตัลแซฟไฟร์เจือไทเทเนียม

ผลึกอัญมณีไทเทเนียม Ti:Al2O3 (ความเข้มข้นของสารเติมแต่ง 0.35 wt% Ti2O3) ช่องว่างของคริสตัลซึ่งเป็นไปตามแผนผังผังกระบวนการของวิธีการประมวลผลพื้นผิวของแท่งเลเซอร์คริสตัลอัญมณีไทเทเนียมของการประดิษฐ์ปัจจุบันจะแสดงอยู่ในรูปที่ 1 ขั้นตอนการเตรียมการเฉพาะของวิธีการแปรรูปพื้นผิวของแท่งเลเซอร์คริสตัลพลอยไทเทเนียมของการประดิษฐ์ปัจจุบันมีดังนี้:

<1> การวางแนวการตัด: ขั้นแรกให้คริสตัลอัญมณีไททาเนียมถูกปรับทิศทาง จากนั้นจึงตัดเป็นช่องว่างรูปทรงเสาเหลี่ยมโดยเว้นระยะเผื่อการประมวลผลไว้ประมาณ 0.4 ถึง 0.6 มม. ตามขนาดของแท่งเลเซอร์ที่ทำเสร็จแล้ว

<2>การเจียรแบบหยาบและละเอียดของคอลัมน์: คอลัมน์ว่างจะถูกกราวด์เป็นหน้าตัดเหลี่ยมหรือทรงกระบอกด้วยสารกัดกร่อนซิลิกอนคาร์ไบด์ 120~180# หรือโบรอนคาร์ไบด์บนเครื่องเจียรแบบหยาบ โดยมีข้อผิดพลาดความเรียวและความไม่กลมเท่ากับ ±0.01มม.

<3> การประมวลผลผิวหน้าส่วนท้าย: แท่งเลเซอร์อัญมณีไทเทเนียม การประมวลผลผิวหน้าสองส่วนอย่างต่อเนื่องด้วยการเจียรโบรอนคาร์ไบด์ W40, W20, W10 บนแผ่นเหล็กในกระบวนการเจียร ควรให้ความสำคัญกับการวัดแนวตั้งของใบหน้าส่วนท้าย

<4> การขัดด้วยเคมี-เครื่องกล: การขัดด้วยเคมี-เครื่องกลเป็นกระบวนการขัดคริสตัลบนแผ่นขัดเงาโดยใช้หยดสารละลายกัดกรดสูตรสำเร็จการขัดชิ้นงานและแผ่นขัดเงาสำหรับการเคลื่อนที่สัมพัทธ์และการเสียดสี ในขณะที่อยู่ในสารละลายวิจัยที่มีสารกัดกรดทางเคมี (เรียกว่าน้ำยาขัดเงา) เพื่อให้การขัดเงาเสร็จสมบูรณ์ด้วยความช่วยเหลือของ

<5> การแกะสลักด้วยกรด: แท่งอัญมณีไทเทเนียมหลังจากการขัดตามที่อธิบายไว้ข้างต้นจะถูกใส่ลงในส่วนผสมของ H2SO4:H3PO4 = 3:1 (v/v) ที่อุณหภูมิ 100-400°C และแกะสลักด้วยกรดเป็นเวลา 5 -30 นาที.จุดประสงค์คือการลบกระบวนการขัดเงาบนพื้นผิวของแท่งเลเซอร์ที่เกิดจากความเสียหายทางกลใต้พื้นผิว และเพื่อขจัดคราบต่างๆ เพื่อให้ได้ระดับอะตอมที่เรียบและเรียบ ความสมบูรณ์ของตาข่ายของพื้นผิวที่สะอาด .

<6> การบำบัดความร้อนที่พื้นผิว: เพื่อขจัดความเครียดและรอยขีดข่วนบนพื้นผิวที่เกิดจากกระบวนการก่อนหน้านี้ และเพื่อให้ได้พื้นผิวที่เรียบในระดับอะตอม แท่งอัญมณีไทเทเนียมหลังจากการกัดกรดจะถูกล้างด้วยน้ำปราศจากไอออนเป็นเวลา 5 นาที และแท่งพลอยไทเทเนียมถูกวางไว้ในสภาพแวดล้อม 1360 ± 20 ° C ที่อุณหภูมิคงที่ 1 ถึง 3 ชั่วโมงในบรรยากาศไฮโดรเจน และอยู่ภายใต้การบำบัดความร้อนที่พื้นผิว