พื้นผิวซิลิคอนออนฉนวน SOI เวเฟอร์สามชั้นสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์และความถี่วิทยุ

ขอแนะนำเวเฟอร์ซิลิคอนออนฉนวน (SOI) ขั้นสูงของเรา ออกแบบอย่างพิถีพิถันด้วยชั้นที่แตกต่างกันสามชั้น ปฏิวัติการใช้งานไมโครอิเล็กทรอนิกส์และความถี่วิทยุ (RF)พื้นผิวที่เป็นนวัตกรรมใหม่นี้รวมเอาชั้นซิลิคอนด้านบน ชั้นฉนวนออกไซด์ และพื้นผิวซิลิกอนด้านล่างเข้าด้วยกัน เพื่อมอบประสิทธิภาพและความอเนกประสงค์ที่ไม่มีใครเทียบได้

ออกแบบมาเพื่อตอบสนองความต้องการของไมโครอิเล็กทรอนิกส์สมัยใหม่ เวเฟอร์ SOI ของเรามอบรากฐานที่มั่นคงสำหรับการผลิตวงจรรวม (IC) ที่สลับซับซ้อนด้วยความเร็ว ประสิทธิภาพการใช้พลังงาน และความน่าเชื่อถือที่เหนือกว่าชั้นซิลิคอนด้านบนช่วยให้สามารถบูรณาการส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ที่ซับซ้อนได้อย่างราบรื่น ในขณะที่ชั้นออกไซด์ที่เป็นฉนวนจะลดความจุของปรสิตให้เหลือน้อยที่สุด ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพโดยรวมของอุปกรณ์

ในขอบเขตของการใช้งาน RF เวเฟอร์ SOI ของเรามีคุณสมบัติเป็นเลิศด้วยความจุปรสิตต่ำ แรงดันพังทลายสูง และคุณสมบัติการแยกที่ดีเยี่ยมสารตั้งต้นนี้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับสวิตช์ RF เครื่องขยายสัญญาณ ตัวกรอง และส่วนประกอบ RF อื่นๆ ช่วยให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพสูงสุดในระบบการสื่อสารไร้สาย ระบบเรดาร์ และอื่นๆ

นอกจากนี้ ความทนทานต่อรังสีโดยธรรมชาติของเวเฟอร์ SOI ของเราทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานด้านการบินและอวกาศและการป้องกัน ซึ่งความน่าเชื่อถือในสภาพแวดล้อมที่รุนแรงเป็นสิ่งสำคัญโครงสร้างที่แข็งแกร่งและคุณลักษณะด้านประสิทธิภาพที่โดดเด่นรับประกันการทำงานที่สม่ำเสมอแม้ในสภาวะที่รุนแรง

คุณสมบัติที่สำคัญ:

สถาปัตยกรรมสามชั้น: ชั้นซิลิคอนด้านบน ชั้นฉนวนออกไซด์ และซับสเตรตซิลิกอนด้านล่าง

ประสิทธิภาพไมโครอิเล็กทรอนิกส์ที่เหนือกว่า: ช่วยให้สามารถประดิษฐ์ไอซีขั้นสูงด้วยความเร็วและประสิทธิภาพการใช้พลังงานที่เพิ่มขึ้น

ประสิทธิภาพ RF ที่ยอดเยี่ยม: ความจุปรสิตต่ำ แรงดันพังทลายสูง และคุณสมบัติการแยกที่เหนือกว่าสำหรับอุปกรณ์ RF

ความน่าเชื่อถือในระดับการบินและอวกาศ: ความทนทานต่อรังสีโดยธรรมชาติทำให้มั่นใจในความน่าเชื่อถือในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง

การใช้งานที่หลากหลาย: เหมาะสำหรับอุตสาหกรรมที่หลากหลาย รวมถึงโทรคมนาคม การบินและอวกาศ การป้องกัน และอื่นๆ

สัมผัสประสบการณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์และเทคโนโลยี RF รุ่นต่อไปด้วยเวเฟอร์ซิลิคอนออนฉนวน (SOI) ขั้นสูงของเราปลดล็อกความเป็นไปได้ใหม่ๆ สำหรับนวัตกรรมและขับเคลื่อนความก้าวหน้าในการใช้งานของคุณด้วยโซลูชันซับสเตรตที่ล้ำสมัยของเรา